Willkommen bei ALLRESIST - dem Spezialisten in Sachen Photo- & E-Beam Resists. ALLRESIST entwickelt, produziert und vertreibt Resists für die Optische und Elektronenstrahl- Lithographie sowie die dazugehörigen Prozesschemikalien für die Herstellung von elektronischen Bauteilen.
Wir bieten an:
Resists für alle Standardprozesse der Photo- & E-Beam- Lithographie, sowohl in großen als auch kleinen Mengen. Kurze Lieferzeiten, kleine Gebindegrößen von ¼ Liter, Testmuster und kompetente Beratung gehören zu unseren Serviceleistungen.

Wir entwickeln Sonderresists für komplizierte Technologien. In intensiver Zusammenarbeit mit den Anwendern fertigen wir auf ihre Prozesse zugeschnittene Resists.

Firmenphilosophie
10 hochqualifizierte, engagierte Mitarbeiter verbinden Kompetenz und Innovationswillen zur Firmenphilosophie: Nur zufriedene Kunden und Mitarbeiter bewirken den Markterfolg.

Unsere Erfahrungen in der Photoresistentwicklung beruhen auf langer Tradition. Als Ausgründung aus den Fotochemischen Werken Berlin können wir auf die Ergebnisse aus über 30 jähriger Forschungstätigkeit zurückgreifen. Die Allresist wurde am 16.Oktober 1992 gegründet.

Partner und Bindeglied:
Die ALLRESIST GmbH ist durch ihre intensive Verknüpfung von Forschung und Produktion ein Bindeglied zwischen Forschungseinrichtungen und der Halbleiterindustrie. Das schätzen unsere Kooperationspartner in Wissenschaft und Wirtschaft.

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